PVD (Physical Vapor Deposition)，物理氣相沉積的英文縮寫，具有金屬汽化的特點，與不同的氣體反應形成一種薄膜涂層。今天所使用的大多數 PVD 方法是電弧和濺射沉積涂層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。 

PVD鍍膜是利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以是某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能！ 

PVD基本方法：真空蒸發、濺射 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍） 

PVD又叫真空鍍膜，行業內也叫真空電鍍或者PVD電鍍、PVD涂層。主要是PVD與電鍍（液相沉積，電化學沉積）的薄膜形成，成核，生長等具有部分共性，但其原理，反應過程和膜層性能又有本質的區別。 

PVD電鍍的優點： 

1、金屬外觀，·顏色均勻一致，·顏色深韻、光亮，膜層顏色種類繁多，表面細膩光滑，富有金屬光澤，永不褪色。耐久的表面，在各種基本的的空氣和直射陽光環境條件下******保持良好外觀。·抗氧化，抗腐蝕。耐腐蝕，化學性能穩定，·抗酸。在常規環境下，戶內或者戶外，都抗氧化，不褪色，不失去光澤并不留下痕跡。·正常的使用情況下不會破損。在強烈的陽光，咸的濕地和城市環境下，都不失去光澤，不氧化，不褪色，不脫落和爆裂。在烈日、潮濕等惡劣環境中不變色、不脫落，性能穩定。 

2、******的附著力–可以折彎90度以上不發生裂化或者剝落（PVD鍍膜持有很高附著力和耐久力）。其它的技術，包括電鍍，噴涂都不能與其相比。 

3、鍍層薄，但具有高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷。高硬度，低摩擦系數。不會改變基材本身的外觀，比如鏡面，拉砂紋，蝕刻紋，花紋，CD紋等不會覆蓋。 

4、可以蝕刻出任何能夠想象出的設計圖案。 

5、PVD膜層可鍍材料廣泛，與基體結合力強。 

6、經濟，可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時間和成本。 

7、高真空離子鍍膜技術——對人體和生態環境真正無害。對環境無害，避免化學中毒，可以使用在內裝修或者室外，膜層具有生物兼容性 

8、用途廣泛，現在主要應用于航空航天，耐高溫，高壓，抗磨損零件，刀具模具，日用五金，3C電子配件，建筑裝飾，電工電子，醫學等